Vorträge und Posterpräsentationen (mit Tagungsband-Eintrag):
M. Schneider, J. Weißenbach, U. Schmid:
"Einfluss von Substrattemperatur und Bias-Spannung auf die Eigenschaften von gesputterten AlN Dünnfilmen für BAWs";
Vortrag: MikroSystemTechnik Kongress 2019,
München, Deutschland;
28.10.2019
- 30.10.2019; in: "MikroSystemTechnik Kongress 2017 - Proceedings",
VDE Verlag GMBH,
(2019),
ISBN: 978-3-8007-5090-0;
S. 60
- 63.
Kurzfassung deutsch:
In dieser Arbeit wurde der Einfluss der Substrattemperatur und der Biasspannung während der reaktiven Sputterabscheidung auf die Eigenschaften von Aluminiumnitrid-Dünnfilmen für Anwendungen in BAW Bauelementen untersucht. Wir zeigen, dass höhere Substrattemperaturen von bis zu 400°C zu Dünnschichten mit verbesserten kristallografischen Eigenschaften und glatteren Oberflächen führen. Darüber hinaus ermöglicht das Anlegen erhöhter Biasspannungen während der Abscheidung den Schichtstress über einen weiten Bereich anzupassen.