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F. Kohl, G. Urban, J. Steurer, F. Olcaytug, A. Jachimowicz, A. Glaninger, F. Keplinger, R. Fasching, D. Biacovsky:
"Silizium-Mikrotechnik für thermische Sensoren";
E&I Elektrotechnik und Informationstechnik, 115 (1998), 7/8; S. 391 - 395.

Neuere Entwicklungen im Bereich der Dünnschichttechnologie und der mikromechanischen Be-arbeitung von Silizium haben thermische Sensoren mit erstaunlichen Eigenschaften hervorge-bracht: Die Kombination von Thermistoren aus amorphem Germanium, dünnen Membranen aus CVD Siliziumnitrid und selektiv anisotrop geätztem Siliziumträgern ermöglichen die Herstellung von miniaturisierten hochempfindlichen Temperaturfühlern, Infrarotdetektoren, Schallschnellere-zeptoren, Strömungssensoren und Durchflußmessern für Gase und Flüssigkeiten. Dieser Beitrag präsentiert die am Halbleitertechnologielaboratorium des Instituts für Allgemeine Elektrotechnik und Elektronik erzielten Ergebnisse einschlägiger Forschungsarbeiten.

Silicon-micromachining applied for thermal sensors. Recent developments in the fields of thin film technology processes and silicon micromachining resulted in thermal sensors with astonish-ing specifications. Evaporated germanium thermistors placed on membranes of CVD silicon ni-tride which in turn are fixed at micromachined silicon substrates can act as extremely sensitive thermometers, IR radiation detectors, flow sensors for liquid and gaseous media and sensors for acoustic flow, for example. This paper presents some results of the relevant work at the depart-ment of electrical engineering Vienna University of Technology.