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Zeitschriftenartikel:

H. Kirchauer, S. Selberherr:
"Rigorous Three-Dimensional Photoresist Exposure and Development Simulation over Nonplanar Topography";
IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, 16 (1997), 12; S. 1431 - 1438.



"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1109/43.664225

Elektronische Version der Publikation:
http://www.iue.tuwien.ac.at/pdf/ib_1998/JB1997_Kirchauer_1.pdf


Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.