Zeitschriftenartikel:
H. Kirchauer, S. Selberherr:
"Rigorous Three-Dimensional Photoresist Exposure and Development Simulation over Nonplanar Topography";
IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems,
16
(1997),
12;
S. 1431
- 1438.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1109/43.664225
Elektronische Version der Publikation:
http://www.iue.tuwien.ac.at/pdf/ib_1998/JB1997_Kirchauer_1.pdf
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.