H. Kirchauer, S. Selberherr:
"Three-Dimensional Photolithography Simulation";
IEEE Journal of Technology Computer Aided Design, 1 (1997), 6; S. 1 - 37.
http://dx.doi.org/10.1109/TCAD.1996.6449163Elektronische Version der Publikation:
http://www.iue.tuwien.ac.at/htmlpapers/kirchauer-jun97/