Zeitschriftenartikel:
W. Bohmayr, A. Burenkov, J. Lorenz, H. Ryssel, S. Selberherr:
"Monte Carlo Simulation of Silicon Amorphization during Ion Implantation";
IEEE Transactions on Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems,
17
(1998),
12;
S. 1236
- 1243.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1109/43.736563
Elektronische Version der Publikation:
http://www.iue.tuwien.ac.at/pdf/ib_1999/JB1998_Bohmayr_1.pdf
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.