Vorträge und Posterpräsentationen (mit Tagungsband-Eintrag):
W. Bohmayr, A. Burenkov, J. Lorenz, H. Ryssel, S. Selberherr:
"Monte Carlo Simulation of Silicon Amorphization During Ion Implantation";
Vortrag: International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD),
Tokyo, Japan;
02.09.1996
- 04.09.1996; in: "Proceedings of the International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD)",
(1996),
ISBN: 0-7803-2745-4;
S. 17
- 18.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1109/SISPAD.1996.865252
Elektronische Version der Publikation:
http://www.iue.tuwien.ac.at/pdf/ib_1997/CP1996_Bohmayr_1.pdf
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.