Vorträge und Posterpräsentationen (mit Tagungsband-Eintrag):
R. Wittmann, A. Hössinger, S. Selberherr:
"Monte Carlo Simulation of Ion Implantation in Silicon-Germanium Alloys";
Vortrag: International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD),
Munich, Germany;
02.09.2004
- 04.09.2004; in: "Proceedings of the International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD)",
Springer,
(2004),
ISBN: 3211224688;
S. 169
- 172.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1007/978-3-7091-0624-2_40
Online-Bibliotheks-Katalog der TU Wien:
http://aleph.ub.tuwien.ac.at/F?base=tuw01&func=find-c&ccl_term=AC04967635
Elektronische Version der Publikation:
http://www.iue.tuwien.ac.at/pdf/ib_2005/CP2004_Wittmann_1.pdf
Zugeordnete Projekte:
Projektleitung Siegfried Selberherr:
SIM
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.