Buchbeiträge:
R. Wittmann, S. Uppal, A. Hössinger, J. Cervenka, S. Selberherr:
"A Study of Boron Implantation into High Ge Content SiGe Alloys";
in: "SiGe and Ge: Materials, Processing, and Devices, Vol. 3, No. 7",
D. Harame, J. Boquet, M. Caymax, J. Cressler, H. Iwai, S. Koester, G. Masini, J. Murota, A. Reznicek, K. Rim, B. Tillack, S. Zaima (Hrg.);
herausgegeben von: The Electrochemical Society;
ECS Transactions,
2006,
ISBN: 1-56677-507-8,
S. 667
- 676.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1149/1.2355862
Elektronische Version der Publikation:
http://www.iue.tuwien.ac.at/pdf/ib_2007/JB2006_Wittmann_1.pdf
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.