Vorträge und Posterpräsentationen (ohne Tagungsband-Eintrag):
M. Fink:
"Aluminiumoxidabscheidung durch Plasma - CVD";
Vortrag: Seminar Institut für Allgemeine Physik (IAP),
TU Wien;
24.06.2003.
Kurzfassung deutsch:
Al2O3 tritt in Form verschiedenster Modifikationen auf, wovon nur zwei (a und k) als Hartstoffschichten geeignet sind. Bislang war es nur möglich, diese kristallinen Phasen von Al2O3 mit thermischem CVD abzuscheiden. Ziel war es, a und/oder k - Al2O3 mittels PACVD und damit bei deutlich geringeren Temperaturen abzuscheiden.
Untersucht wurden unter anderem der Einfluß des Sauerstoffträgers und von H2S auf die abgeschiedene Phase und die Mikrohärte von Al2O3. Die Versuche zeigten, daß es möglich ist, bei 600 °C das gewünschte a - bzw. k - Al2O3 abzuscheiden. Probleme gibt es vor allem noch bei der Schichtdickenverteilung relativ zum Gaseinlaß in den Reaktor. Diese Probleme könnten durch geeignete Kathoden-Anodenkonfigurationen zu lösen sein.
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.