Vorträge und Posterpräsentationen (mit Tagungsband-Eintrag):
R. Saathof, J. Spronck, R. Munnig Schmidt:
"Counteracting Thermal Issues in EUV-Lithography using an Adaptive Optics System";
Vortrag: EUSPEN Special Interest Group: Thermal Issues,
Zürich, Schweiz;
19.03.2014
- 20.03.2014; in: "Proceeding of the EUSPEN Special Interest Group: Thermal Issues",
(2014),
ISBN: 978-0-9566790-4-8;
2 S.
Kurzfassung englisch:
The high absorption of Exreme UltraViolet (EUV)-light deteriorates the imaging process of EUV-lithography machines. In this study a correction strategy and mechanisms are presented including experimental results.
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.