Zeitschriftenartikel:
C. Bae, J. McMahon, H. Detz, G. Strasser, J. Park, E. Einarsson, D. Eason:
"Influence of thickness on crystallinity in wafer-scale GaTe nanolayers grown by molecular beam epitaxy";
AIP Advances,
7
(2017),
035113;
S. 035113-1
- 035113-5.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1063/1.4978776
Elektronische Version der Publikation:
http://publik.tuwien.ac.at/files/publik_258945.pdf
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.