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Zeitschriftenartikel:

C. Bae, J. McMahon, H. Detz, G. Strasser, J. Park, E. Einarsson, D. Eason:
"Influence of thickness on crystallinity in wafer-scale GaTe nanolayers grown by molecular beam epitaxy";
AIP Advances, 7 (2017), 035113; S. 035113-1 - 035113-5.



"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1063/1.4978776

Elektronische Version der Publikation:
http://publik.tuwien.ac.at/files/publik_258945.pdf


Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universitšt Wien.