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H. Seidel, U. Schmid, U. Prechtel:
"Ätzhalterung für ein Substrat und Ätzsystem mit einer Ätzhalterung";
Patent: Deutschland, No. DE 10 2004 045 956 84; submitted: 09-22-2004, granted: 12-11-2008.

Ätzhalterung für ein Substrat (2; 33),
dessen eine (erste) Oberfläche (3) einem mittels einer optischen
Messvorrichtung überwachten Ätzmittelangriff unterworfen
ist, wobei die Ätzhalterung derart ausgebildet ist,
daß sie nach Aufnahme des Substrats (2; 33) zusammen
mit der gegenüberliegenden (zweiten) Oberfläche (4, 34)
des Substrats (2; 33) und einem zwischen Substrat (2; 33)
und Ätzhalterung angeordneten Dicht- und/oder Abstandselement
(7, 1 0; 35) einen gegen das Eindringen des Ätzmittels
abgedichteten ätzmittelfreien Hohlraum (8; 38) bildet,
der von den Strahlen der optischen Messvorrichtung
durchquert wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Ätzhalterung
derart ausgelegt ist, daß die gesamte Strahlführung
(12, 13; 39, 40) außerhalb des Ätzmittels angeordnet ist
und die Strahlführung ( 12, 13) und/oder eine Strahlenquelle
(39) und/oder ein Strahlendetektor (40) in den Oberflächenabschnitten
integriert sind, die den ätzmittelfreien Hohlraum
(8; 38) begrenzen.