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R. Liska, C. Gorsche, G. Harakaly, M. Kury, J. Stampfl, P. Dorfinger, Y. Chen, C. Li, S. Kaza:
"Curable composition for use in a high temperature lithography-​based photopolymerization process and method of producing crosslinked polymers therefrom for use in orthodontic appliances";
Patent: USA, No. WO2019213585A1;US2019338067A1; submitted: 05-03-2019.

CURABLE COMPOSITION FOR USE IN A HIGH TEMPERATURE PHOTOPOLYMERISATION METHOD ON A LITHOGRAPHY BASIS AND PROCESS FOR THE PREPARATION OF CROSS-LINKED POLYMERS THEREFROM

HÄRTBARE ZUSAMMENSETZUNG ZUR VERWENDUNG IN EINEM HOCHTEMPERATUR-PHOTOPOLYMERISATIONSVERFAHREN AUF LITHOGRAPHIEBASIS UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON VERNETZTEN POLYMEREN DARAUS

Die vorliegende Erfindung betrifft eine härtbare Zusammensetzung zur Verwendung in einem Hochtemperatur-Photopolymerisationsverfahren auf Lithographiebasis, die zumindest die definierten polymerisierbaren Komponenten A bis C umfasst, wovon:Komponente A zumindest ein oligomeres Dimethacrylat der chemischen Formel (I) ist und als Glasübergangstemperaturmodifikator dient;Komponente B zumindest ein, gegebenenfalls Polyether-modifiziertes, (Poly-)Carbonat-(Poly-)Urethan-Dimethacrylat einer der chemischen Formeln (II), (III), (IV) oder (V) ist und als Zähigkeitsmodifikator dient; undKomponente C Komponente C zumindest ein mono- oder multifunktioneller Methacrylat-basierter Reaktivverdünner ist.

Photopolymerisationsverfahren auf Lithographiebasis, medizinischen Vorrichtungen, Teil des menschlichen Körpers