Zeitschriftenartikel:
P. Schuller, M. Rothbauer, C. Eilenberger, S. Kratz, G. Höll, P. Taus, M. Schinnerl, J Genser, P. Ertl, H. D. Wanzenböck:
"Optimized plasma-assisted bi-layer photoresist fabrication protocol for high resolution microfabrication of thin-film metal electrodes on porous polymer membranes";
MethodsX,
6
(2019),
1;
S. 2606
- 2613.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1016/j.mex.2019.10.038.
Elektronische Version der Publikation:
https://publik.tuwien.ac.at/files/publik_283969.pdf
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.