Vorträge und Posterpräsentationen (mit Tagungsband-Eintrag):
M. Schneider, J. Weißenbach, U. Schmid:
"Einfluss von Substrattemperatur und Bias-Spannung auf die Eigenschaften von gesputterten AlN Dünnfilmen für BAWs";
Vortrag: MikroSystemTechnik Kongress 2019,
München, Deutschland;
28.10.2019
- 30.10.2019; in: "MikroSystemTechnik Kongress 2017 - Proceedings",
VDE Verlag GMBH,
(2019),
ISBN: 978-3-8007-5090-0;
S. 60
- 63.
Kurzfassung deutsch:
In dieser Arbeit wurde der Einfluss der Substrattemperatur und der Biasspannung während der reaktiven Sputterabscheidung auf die Eigenschaften von Aluminiumnitrid-Dünnfilmen für Anwendungen in BAW Bauelementen untersucht. Wir zeigen, dass höhere Substrattemperaturen von bis zu 400°C zu Dünnschichten mit verbesserten kristallografischen Eigenschaften und glatteren Oberflächen führen. Darüber hinaus ermöglicht das Anlegen erhöhter Biasspannungen während der Abscheidung den Schichtstress über einen weiten Bereich anzupassen.
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.