Zeitschriftenartikel:
L.F. Aguinsky, F. Rodrigues, G. Wachter, M. Trupke, U. Schmid, A. Hössinger, J. Weinbub:
"Phenomenological Modeling of Low-Bias Sulfur Hexafluoride Plasma Etching of Silicon";
Solid-State Electronics (eingeladen),
191
(2022),
S. 108262-1
- 108262-8.
"Offizielle" elektronische Version der Publikation (entsprechend ihrem Digital Object Identifier - DOI)
http://dx.doi.org/10.1016/j.sse.2022.108262
Elektronische Version der Publikation:
https://www.iue.tuwien.ac.at/pdf/ib_2022/JB2022_Aguinsky_1.pdf
Erstellt aus der Publikationsdatenbank der Technischen Universität Wien.